日本国家研究院将与英特尔(INTC.US)合作建立芯片研发设施

亚汇网获悉，据报道，日本国家研究院正与英特尔(INTC.US)合作，在日本建立一个半导体技术研发中心。外媒援引知情人士报道称，新设备预计将在三到五年内建成，将包括极紫外光刻(EUV)设备。

报道补充说，制造设备和材料的公司将支付一笔费用，以使用该设施进行原型设计和测试。据悉，英特尔预计将提供利用EUV技术制造芯片的专业知识，而日本国家先进工业科学技术研究所(National Institute of Advanced Industrial Science and technology)将运营该设施。该设施的总投资预计将达到数亿美元。英特尔没有立即回应置评请求。

此前一天，英特尔首席执行官帕特里克?盖尔辛格(Patrick Gelsinger)和其他一些关键高管称，预计将在本月晚些时候向董事会提交一份剥离不必要业务和削减资本支出的计划。据悉，此次计划将包括如何通过出售包括可编程芯片部门Altera在内的业务以实现总体降本的想法。

英特尔近来一直在着力解决成本问题，该公司此前公布的第二季度业绩和指引远低于预期，同时该公司表示将裁员15%并暂停派息，以降低支出。随后该股大跌，其市值已跌至1000亿美元以下。